該設(shè)備是一款小型高真空磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡 單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國內(nèi) 最優(yōu)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運 行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。
該設(shè)備標(biāo)配 2 只Φ2 英寸永磁靶，直流脈沖濺射電源(用于濺射金屬導(dǎo)電材料)， 全自動匹配射頻濺射電源 (用于濺射絕緣材料)  ，主要用來開發(fā)納米級單層及多  層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。

設(shè)備主要配置表
 

真空腔室	1Cr18Ni9Ti 優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接，上開蓋和前開門結(jié)構(gòu)
真空系統(tǒng)	機械泵+分子泵( 國產(chǎn)或進(jìn)口可選)  ，  極限真空優(yōu)于 8*10-5 Pa(設(shè) 備空載抽真空 24h )  ，大氣~8*10-4 Pa≦30min；采用電阻電離一體 化真空規(guī)管讀取真空度；閥門采用電磁驅(qū)動擋板閥和手動限流閥； 充氣系統(tǒng)標(biāo)配 10sccm/50sccm 質(zhì)量流量計各 1 套
濺射系統(tǒng)	Ф2 英寸永磁靶 2 支 (含靶擋板)  ，可升級為 3 支，兼容直流和射 頻，可以濺射磁性材料的靶材；直流脈沖濺射電源，全自動匹配射 頻電源可任選；標(biāo)配冷卻水機系統(tǒng)
基片臺	Ф100mm，高度：60 ~ 120mm 可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min 可調(diào)， 可加熱至 300℃，可選配偏壓清洗功能
膜厚監(jiān)控儀	可選配進(jìn)口或國產(chǎn)單水冷探頭膜厚儀
控制系統(tǒng)	PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現(xiàn) 一鍵抽停真空